中微7纳米蚀刻机受关注，国产半导体设备困境如何解
最近刚买了华为P40pro+手机，准备买一台华为笔记本电脑，才算是切身体会到了卡脖子的痛，缺芯之苦。华为线下体验店高端手机和笔记本电脑基本都没货，想买一台英特尔i7处理器的华为matebookD15，跑遍了两个城市（工作地和老家）的所以华为授权体验店都没货，华为商城也没货，要想买只能京东或者线下的加价购买，基本都是加价1000左右。让我放弃了购买华为电脑的念头。华为由于没有了麒麟9000芯片，手机mate40也全是无货状态，麒麟990芯片的手机稍微好点，但是也缺货严重。
去年前年芯片就是投资的热点，卡脖子事件后更是把芯片产业上升到了国家高度，举国之力来解决芯片问题。这让我们看到了希望，近期中微半导体购买的7nm刻蚀机的消息传开了，我们在高兴的同时也要认清以下几点：
1.刻蚀机不是光刻机，要生产7nm芯片光有刻蚀机是不行的，最关键的还是光刻机以及一整套复杂的工艺流程。但是有了7nm刻蚀机也算是一大进步，也是值得庆祝的。
2.光刻机的研发需要大量的人力物力，有些东西是无法用钱来解决的。所以芯片完全自主化的道路还很漫长，不可急于求成。
3.通过购买或者谈判等方式只能解决短期困境，卡脖子的根本问题始终没有解决，所以最终还是必须要自己掌握核心科技技术，不然还是受制于人。
中微是真牛，十多年前就关注光刻机，蚀刻机，原来总以为中微是吹牛，现在给台积电7nm供货，看来是真牛啊，真正的前沿科技企业啊，中国的骄傲，就缺顶尖的光刻机了，前阵清华研发成功双工工作台，可能也在突破中，再用十年应该会成功！
半导体芯片生产是先由光刻机在晶元上绘图，再由蚀刻机蚀刻电路，蚀刻机国内已有7纳米生产能力，而光刻机由于天价研发经费和高技术门槛，全球仅剩荷兰一家企业在生产及研发，虽然没有对中国实行技术设备封锁，但面对全球众多采购者及一年量产十几台设备现状，将中国提货日排在最后，严重制约了我国半导体产业发展规模，另一方面，由于国内半导体企业追求效益、为减少故障率又不愿使用国产光刻设备，导致国内光刻技术不能在应用中完善，光刻技术本来就差距很大，缺乏应用经验反馈，技术追赶步伐缓慢！面对光刻机技术落后这难以跨越又必须跨越的障碍！首先从国家战略层面引起高度重视，面对现实，加大人才培养，完善产品研发条件及模拟应用环境建设，促进光刻技术稳健快速赶超，其次利用荷兰光刻机生产企业新技术研发经费不足，组织资金投资，既能确保最新技术设备早出早提，早日实现芯片国产化，又能了解最先进光刻机技术研发状态！侧面助力国产技术研发速度！
光刻机的复杂程度要远远高于蚀刻机，而生产晶元两种机器都要用到，基本步骤如下：晶元上面涂一层光刻胶，光刻机把光照到的地方侵蚀掉，然后浸泡到化学溶液里面，通过蚀刻机把没有光刻胶图层保护腐蚀掉，晶元就会形成想要的形状。中微的是蚀刻机，我们的光刻机与世界发达水平还差很多，由于《瓦森纳协定》存在，我们无法进口最先进的光刻机，要改变现状我认为，放弃幻想大量投入资金研发，扶持国内研发企业，用国家意志攻克技术难关，等我们接近世界水平的时候，任何协定都是一纸空文，国际壁垒也土崩瓦解。
大国重器，赢在互联，不错，中华民族迎来了全面的崛起…
想当年，中微团队的带头人尹志尧毅然决然的放弃放弃美国的企业的高薪厚遇，带着满腔爱国热情，组成了中微半导体公司，只用三年时间就研发出12英寸晶圆刻蚀机。世界震惊，而今年又中标台积电7英寸的刻蚀机也算独显鳌头技术难得…
纵管国内半导体行业，起步晚，高新人才短缺失，技术设备较差。加大人才培养是根本，加大自己核心技术储备，发展半导体的同时，设备重点是加大研发。美国小一点的芯片企业，年年都是上亿美元的投，而我国千万美元都不一定到。我国生产的芯片九牛一毛，差不多都是进口的，每年要进口2000亿美元的花费比石油和粮食还多。所以我们自己生产已是刻不容缓…
我们目前应用的二线产品，三线产品能够满足一般应用，只是缺口太大，而且五花八门，各做各的，没有统一的规划，浪费了资源，浪费着钱财，比如今天我研究电容，你研究电阻；等我电容弄好，你电阻也弄好；然后我再去研究电阻，你在研究电容。两者就是重复研究，费时费力还影响发展的脚步
如果把单打，换成双打。进度会增加一般，取长补短，集中优势，资源共享，效率会巨大增加
以现在的发展效率，全方位，整体推进，补足中低端产品的短板，大力推广。让产品全面开花。顺势追赶还要几年的代差
中国的刻蚀机已经量产，再若有光刻机的研发，相信三年四年的时间自己就可以投产7纳米技术的芯片了。那时候也许扔然落后，但可是奇迹般的进步了，芯片企业也能够更多的自给了
到此，以上就是小编对于手机蚀刻的问题就介绍到这了，希望介绍关于手机蚀刻的1点解答对大家有用。
